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深圳真空电镀的问题工艺分析


深圳真空电镀在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术.它有真空蒸发镀,溅射镀,离子镀等,获得这些沉积方法的途径有多种:电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法,可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备.
深圳真空电镀相对于传统的湿发电镀,真空电镀具有以下优点:1.沉积材料广泛:可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属,
深圳真空电镀通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层,而且可以根据需要设计涂层体系。
表示电极电位随着电流密度而改变的关系曲线,叫做极化曲线。在极化曲线中,可以用横坐标表示电流密度,纵坐标表示电极电位;也可以用横坐标表示电极电位,而纵坐标表示电流密度,这要根据研究对象和研究方法而定。曲线上的每一个点都表示在该电流密度下的电极电位。
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