真空电镀(Vacuum Metalizing)便是物理气相堆积(PVD),即在真空下将原子打到靶材外表上到达镀膜的意图。初运用于光学镜片,如帆海望远镜镜片,后来随着技能的改善,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等资料上的装饰镀膜、资料外表改性等。深圳真空电镀厂真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa),使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件外表,形成一层金属膜的方法。
深圳真空电镀厂的首要类型有:物理气相堆积(Physical Vapor Deposition,PVD)、真空蒸发(真空蒸发)、磁控溅射(真空溅射)、离子镀(真空离子镀)
特点:
1.真空镀膜所取得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件外表的形状。
2.工作电压不是很高(200V),操作方便,但设备较昂贵。
3.蒸镀锅瓶容积小,电镀件出数少,出产效率较低。
4.只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰。
5.对镀件外表质量要求较高,一般电镀前需打底油来补偿工件外表缺点。
6.真空镀膜能够镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。
工艺成本:模具费用(无)、单件费用(中)、批量出产(中)
典型使用:反射涂层;消费电子产品和隔热板的外表处理;
产量规模:单件到大批量皆可
质量优势:合适高质量,高亮和产品外表保护层
出产效率:速度慢,详细取决于设备内靶材存放量,一般为6小时/周期(包含喷漆工序)
适用资料:几乎一切金属、合金、及陶瓷资料。天然资料会影响真空环境,不合适真空电镀。除了天然资料以外,合适真空电镀的资料包含金属类资料、软硬塑料(ABS料、ABS+PC料、PC料等等)、复合资料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀外表处理的是铝、其次是银和铜。